产品介绍：
CVD化学气相沉积管式炉（单管、双管、卧式、立式、单温区、双温区、三温区）主要应用于大专院校、科研院所、工矿企业等实验和小批量生产之用。主要用于电子陶瓷产品的预烧、烧结、渡膜、高温热解低温沉积（CVD）工艺等，设备的控制系统采用源厂进口产品，具有安全可行、操作简单、控温精度高（专家PID控制）、保温效果好、温度范围大、炉膛温度均匀性高、温区多、可通气氛、抽真空等特点。
详细的技术方案请联系：18355112806 微信同号
CVD中温管式炉主要技术参数表如下：
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型号及规格
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工作温度(℃)
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炉管直径(mm)
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温区长度(mm)
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温区个数
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加热元件
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控制温度(℃)
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功率(kW)
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温度均匀性
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CVD-03-30-1
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1000
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30
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300
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1
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电阻丝
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程序控温±1
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2
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±3℃
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CVD-04-20-2
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1000
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40
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200/200
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2
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电阻丝
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程序控温±1
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3
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±3℃
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CVD-05-20-3
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1000
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50
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200/200/200
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3
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电阻丝
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程序控温±1
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4.5
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±4℃
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CVD-06-20-3
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1000
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60
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200/200/200
|
3
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电阻丝
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程序控温±1
|
4.5
|
±4℃
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CVD-155-25-3
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1000
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155
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250/250/250
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3
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电阻丝
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程序控温±1
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9
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±5℃
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